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概览

描述

TP65H030G4PWS、650V、30mΩ, TO-247 封装的氮化镓 (GaN) FET 是使用瑞萨电子第四代加 SuperGaN® 平台的常闭器件。 它将高压 GaN 高电子迁移率晶体管 (HEMT) 与优化的低压硅 MOSFET 相结合,以提供卓越的性能、标准驱动、易于采用和增强的可靠性。

特性

  • TO-247 封装的 30mOhm、650V GaN 器件
  • 符合 JEDEC 标准的 GaN 技术
  • 低動態電阻Dynamic RDS(on)eff 驗証
  • 零反向恢复电荷
  • 减少分频损耗
  • 在硬开关和软开关电路中实现更高的效率,从而实现:
    • 提高功率密度
    • 减小系统尺寸和重量
    • 整体降低系统成本

产品对比

应用

文档

类型 文档标题 日期
数据手册 PDF 912 KB
应用说明 PDF 380 KB
白皮书 PDF 1.92 MB
其他 ZIP 283 KB
4 items

设计和开发

模型

ECAD 模块

点击产品选项表中的 CAD 模型链接,查找 SamacSys 中的原理图符号、PCB 焊盘布局和 3D CAD 模型。如果符号和模型不可用,可直接在 SamacSys 请求该符号或模型。

Diagram of ECAD Models

视频和培训

Gen IV Plus 650V SuperGaN FETs

The latest generation of high-voltage Gallium Nitride (GaN) FETs offers superior thermal efficiency and ultra-low power loss, enabling high-density power conversion in multi-kilowatt AI datacenters, industrial systems, and charging applications.

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